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熱(rè)門(mén)關鍵詞: 抛光(guāng)粉系列 | 光(guāng)學抛光(guāng)粉 | 手機(jī)玻璃抛光(guāng)粉 | 抛光(guāng)液系列 | 矽片抛光(guāng)液

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抛光(guāng)液的使用方法和制作(zuò)步驟

文章(zhāng)出處:行業熱(rè)點 責任編輯:東莞市賽亞稀土(tǔ)實業有限公司 發表時間:2021-11-19
  抛光(guāng)液使用方法
包括棘輪扳手、開口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺絲刀等,鉛錫合金、鋅合金等金屬産品經過研磨以後,再使用抛光(guāng)劑配合振動研磨光(guāng)飾機(jī),滾桶式研磨光(guāng)式機(jī)進行抛光(guāng)。
1、抛光(guāng)劑投放(fàng)量爲(根據不同産品的大(dà)小,光(guāng)飾機(jī)的大(dà)小和各公司的産品光(guāng)亮度要求進行适當配置);
2、抛光(guāng)時間:根據産品的狀态來(lái)定;
3、抛光(guāng)完成後用清水清洗一次并且烘幹即可(kě)。
抛光(guāng)液制作(zuò)步驟
依據機(jī)械加工(gōng)原理(lǐ)、半導體(tǐ)材料工(gōng)程學、物力化學多相(xiàng)反應多相(xiàng)催化理(lǐ)論、表面工(gōng)程學、半導體(tǐ)化學基礎理(lǐ)論等,對矽單晶片化學機(jī)械抛光(guāng)(CMP)機(jī)理(lǐ)、動力學控制過程和影(yǐng)響因素研究标明,化學機(jī)械抛光(guāng)是一個複雜的多相(xiàng)反應,它存在着兩個動力學過程:
(1)抛光(guāng)首先使吸附在抛光(guāng)布上的抛光(guāng)液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的矽原子在表面進行氧化還(hái)原的動力學過程。這是化學反應的主體(tǐ)。
(2)抛光(guāng)表面反應物脫離(lí)矽單晶表面,即解吸過程使未反應的矽單晶重新裸露出來(lái)的動力學過程。它是控制抛光(guāng)速率的另一個重要過程。
矽片的化學機(jī)械抛光(guāng)過程是以化學反應爲主的機(jī)械抛光(guāng)過程,要獲得(de)質量好的抛光(guāng)片,必須使抛光(guāng)過程中的化學腐蝕作(zuò)用與機(jī)械磨削作(zuò)用達到一種平衡。如(rú)果化學腐蝕作(zuò)用大(dà)于機(jī)械抛光(guāng)作(zuò)用,則抛光(guāng)片表面産生(shēng)腐蝕坑、桔皮狀波紋。如(rú)果機(jī)械磨削作(zuò)用大(dà)于化學腐蝕作(zuò)用,則表面産生(shēng)高損傷層。
抛光(guāng)液的使用方法和制作(zuò)步驟

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